Photometric Modeling for Computer Vision and Graphics: Proceedings of Workshop, June 22, 1999, Fort Collins, Colorado

Gespeichert in:
Körperschaften:
IEEE Computer Society on Pattern Analysis and Machine Vision Staff, IEEE Computer Society on Pattern Analysis and Machine Vision
Format:
Elektronisch E-Book
Sprache:
Englisch
Veröffentlicht:
[Place of publication not identified] IEEE Computer Society Press 1999
Umfang:
1 online resource (vii, 73 pages)
Anmerkungen:
Bibliographic Level Mode of Issuance: Monograph
Anmerkungen:
English
Schlagworte:
Computer graphics > Congresses.
Computer vision > Congresses.
Bezugswerke: