Modeling of film deposition for microelectronic applications

Gespeichert in:
1. Verfasser:
Rossnagel, Stephen M. (HerausgeberIn)
Format:
Buch
Sprache:
Englisch
Veröffentlicht:
San Diego [u.a.] Acad. Press 1996
Bestände:
  • 49L: phyz.t250(22)
Umfang:
XIV, 291 S. : Ill., graph. Darst.
Schriftenreihe:
Thin films ; 22
ISBN:
0125330227
Schlagworte:
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