Tandem-Photolithographie-Verfahren

Gespeichert in:
1. Verfasser:
Sachse, Hermann
Format:
Buch
Sprache:
Deutsch
Veröffentlicht:
Düsseldorf VDI-Verl. 1995
Ausgabe:
Als Ms. gedr.
Bestände:
  • Magazin: pfl/4637
Umfang:
VI, 139 S. : Ill., graph. Darst.
Anmerkungen:
Zsfassung in engl. u. dt. Sprache
Schriftenreihe:
Fortschritt-Berichte VDI : Reihe 9, Elektronik ; 214
ISBN:
3183214091
Schlagworte:
Fotolithografie Halbleitertechnologie
Photoresist
Mehrstufenprozess
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