Proceedings of the Workshop on High-Sensity Plasma Techniques and Processes for Integrated Circuit Fabrication 11-12 September 1990, Burlingame, California 2

1. Verfasser:

Cooper, C. B. (HerausgeberIn)

Körperschaft:

Workshop on High Density Plasma Techniques and Processes for Integrated Circuit Fabrication Burlingame, Calif

Format:

Tagungsbericht Buch

Sprache:

Englisch

Veröffentlicht:

New York AVS 1991

Bestände:

• 49L: phyz.j601

Umfang:

S. 403-1420

Überordnung:

Proceedings of the Workshop on High-Sensity Plasma Techniques and Processes for Integrated Circuit Fabrication ; 2